製備銀納米粒子的常用方法有物理方法和化學方法。化學方法包括溶膠凝膠法、電鍍法、氧化一還原法、靜電噴塗法。利用化學方法所得到的銀顆粒最小可達幾納米。

　　實驗簡單、方便，但所得銀顆粒不易轉移和組裝，且雜質含量較高，容易形成團聚大顆粒。

　　物理製備方法主要有真空蒸鍍、濺射底和離子鍍。

　　濺射鍍又包括直流濺射鍍、磁控濺射鍍、射頻濺射鍍、反應濺射鍍和新發展的微波控製的共濺射鍍等。真空蒸發方法是發展最早、應用最廣的銀納米粒子的製備方法，其原理簡單，操作方便。

　　通過控製蒸發參數可製備幾納米到幾十納米的顆粒，但所得納米粒子定向生長性差，納米粒子分散度大，顆粒形狀和粒度分布不均勻。

　　濺射方法是20世紀40年代開始發展的製備方法，在現代工業和科學研究中得到廣泛應用。濺射方法與蒸發方法一樣，操作簡單。

　　特別是1970年出現的磁控濺射技術，具有高速、低溫兩大特點，通過對濺射參數的控製，可以製備出幾納米到幾十納米的顆粒，所得納米顆粒尺寸小，定向生長性妤，顆粒形狀較整齊，粒度小，較均勻。離子鍍也是一種新型的製備方法，所製備的納米顆粒尺寸小，粒子形狀整齊，粒度也較均勻，但其設備較昂貴。

　　最新的納米粒子的製備設備是流動液麵真空蒸鍍裝置，它可製備出0.1nm的團簇粒子，顆粒均勻度很高，是一種非常好的銀納米製備設備，但設備昂貴，不適合運用於工業生產中。

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