一、電阻蒸發鍍：電阻蒸發源用於蒸發低熔點材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等。電阻蒸發源一般采用鎢、鉬、鉭製作。

　　二、電子束蒸發鍍：利用電子束加熱使膜材汽化蒸發後，凝結在基片表麵成膜是真空蒸鍍技術中一種重要的加熱方法。

這種裝置的種類很多。隨著薄膜技術的廣泛應用，不但對膜的種類要求繁多，而且對膜的質量要求更加嚴格。

　　電阻蒸發鍍已不能滿足蒸鍍某些金屬和非金屬的需要。電子束熱源能獲得遠比電阻熱源更大的能量密度，數值可達到104-109w/cm2，因此可以將膜材加熱至3000-6000c。

　　這就為蒸發難熔金屬和非金屬材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AI2O3等提供了較好的熱源。而且由於被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內，因而可避免容器材料的蒸發及容器材料與膜材之間的反應，這對提高膜的純度是極為重要的。

　　另外，熱量可直接加到膜材表麵上，因此熱效率高，熱傳導和熱輻射損失少。

　　三、電弧加熱蒸發鍍：與電子束加熱方式相類似的一種加熱方式是電弧放電加熱法。它也具有可以避免電阻加熱材料或坩堝材料的汙染，加熱溫度較高的特點，特別適用 於熔點高，同時具有一定導電性的難熔金屬、石墨等的蒸發。

　　同時，這一方法所用的設備比電子束加熱裝置簡單，因而是一種較為廉價的蒸發裝置。

　　四、激光束蒸發鍍：采用高功率密度脈衝激光對材料進行蒸發，用以形成薄膜的方法，一般稱為激光蒸鍍

　　五、高頻感應加熱蒸發鍍：利用感應加熱原理把金屬加熱到蒸發溫度。

　　將裝有膜層材料的坩堝放在螺旋線圈的中央，在線圈中通以高頻電流，可以使金屬膜層材料產生電流將自身加熱升溫，直至蒸發。

　　感應加熱蒸發源的特點：

　　1、蒸發速率大

　　2、蒸發源溫度均勻穩定，不易產生鋁滴飛濺現象

　　3、蒸發源一次裝料，無須送絲機構，溫度控製比較容易，操作簡單

　　4、對膜材純度要求略寬些。

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