1.清洗前，看片子是否短路，是否大小與樣品托合適，蒸鍍時放樣品托的架子升最高，且旋轉。

　　2.打開電流開關，及時打開ABC舟中一個，打開束源爐，及時打開其中一個啟動A、B等。

　　3.摻雜材料用量覆蓋舟底即可。

　　操作步驟：

　　1、打開總開關，包括冷卻水開關和機器開關。

　　2、打開鍍膜機總開關，樣品旋轉開關，升降開關按鈕。

　　3、將玻璃基板至於樣品托中，導電一麵向下。

　　4、蒸鍍室、預處理室放氣。

　　5、打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向關，逆時針方向開)，推拉杆推至大真空室中，將樣品放到推拉杆上，將推拉杆拉回至預處理中。關閉閘板閥(順時關閉，逆時針開)

　　6、打開快門控製電源，打開快門一，更換鎢絲(每做一次實驗更換一次)，將鋁絲掛在鎢絲上(5個，掛於彎折處)，檢查蒸鍍所需材料。

　　7、將掩膜版放置於掩膜版架上。

　　8、打開機械A、機械B泵。打開四個真空計，關閉放氣閥。

　　9、基片預處理(打開角閥)：當處理室真空度達到4.0E1 (4.0×10)Pa

　　時關閉預角閥，打開大真空室角閥，再打開紫外轟擊電源(直流濺射電源)，調節電流0.025-0.030A。轟擊10-15分鍾(等預處理室與蒸鍍室氣壓平衡，打開閘板)。

　　10、插入樣品托：再次打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向開，逆時針方向關)，將樣品傳送至蒸鍍室，用機械手抓取樣品托，並保持在機械手上;然後將將推拉杆拉回至預處理中，關閉閘板閥;降低蒸鍍台(注意樣品托擋板位置)與機械手平齊，將樣品托輕輕推入蒸鍍台下方的樣品托導引槽(上方導引槽)。

　　11、插入掩模板：將樣品升降電源調到手動，將蒸鍍台旋轉180度(用皮帶精確定位)，用升降盒使蒸鍍台最下方的掩模板導引槽與掩膜版庫軌道，至於同一水平線上，用機械手將掩膜版輕輕推至蒸鍍台的掩

　　模板導引槽。

　　12、當大真空室的壓強為1.2E1的時候，關閉角閥，打開閘板閥。

　　13、關閉機械泵A，升起樣品台。

　　14、打開分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要兩個小時)。

　　15、蒸鍍過程：打開快門總開關，晶振開關(F1是清零，F5是開始或停止)。

　　16、打開PID(束源爐)開關，調節溫度，依次蒸鍍相關材料，製備OLED器件。

　　17、關閉分子泵閥門，放氣(真空室頂部放氣按鈕)。打開真空室，取出樣品。

　　18、關閉真空室，待分子泵數字為零時關閉分子泵後關閉機械泵B，打開機械泵A的閥門，打開機械泵A抽低真空。如果長時間不用時一定要關閉循環水冰櫃電源，以防凍裂。

推薦閱讀

麻豆成人影院在线观看設備常用真空計介紹

PVD麻豆成人影院在线观看常見問題解析