1. 空心陰極離子鍍原理在本底真空為高真空的條件下由陰極中通入氬器氣1-10-2在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓使氬氣發生輝光放電在空心陰極內產生低壓等離子體放電陰極溫度升高到2300-2400K時由冷陰極放電轉為熱陰極放電開始熱電子發射放電轉為穩定狀態。

        通入反應氣體可以製化合膜。

　　2. 測控濺射工作原理先將真空室預抽至10-3Pa然後通入氣體如氬氣氣壓為1-10 Pa時給靶加負電壓產生輝光放電電子在電場正作用下加速飛向基片時與氬原子碰撞電離出Ar和另一個電子轟擊靶材由二次電子電離的越來越多不斷轟擊靶材磁場改變電子的運動方向以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡從而提高電子對工作氣體的電離幾率。

　　3. 多弧離子鍍工作原理其工作原理為冷陰極自持弧光放電其物理基礎為場致發射。

　　被鍍材料接陰極真空室接陽極真空室抽為高真空時引發電極啟動器接觸拉開此時陰極與陽極之間形成穩定的電弧放電陰極表麵布滿飛速遊動的陰極斑部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發源以若幹個電弧蒸發源為核心的為多弧離子鍍。

　　4. 電阻蒸發式鍍膜機膜材即要鍍的材料放於蒸發舟中置於真空室中抽到一定真空時通過電阻加熱膜材使其蒸發當蒸發分子的平均自由程大於蒸發源至基片的線性尺寸時原子和分子從蒸發源中逸出後到達基片形成膜。

　　為了使膜厚均勻可以利用電機帶動基片旋轉並用膜厚儀控製膜厚製出優質膜。

　　5. E型槍工作原理陰極燈絲加熱後發射具有0.3 EV初動能的熱電子這些熱電子在燈絲陰極與陽極之間的電場作用下加速並會聚成束狀。

　　在電磁線圈的磁場中電子束沿E x B的方向偏轉通過陰極時電子的能量提高到10KV通過陽極電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表麵上轟擊膜材使其蒸發。

　　6. PCVD鍍膜工作原理將被鍍件放在低壓輝光放電的陰極上通入適當氣體在一定溫度下利用化學反應和離子轟擊相結合的過程在工件表麵獲得塗層。

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